NVIDIA 与 TSMC、ASML 和 Synopsys 携手合作，使用 cuLitho 将下一代芯片制造速度提高40 倍。

NVIDIA 的 cuLitho 软件可将下一代芯片的制造速度提高 40 倍

新闻稿：NVIDIA 今天宣布一项突破，将加速计算带入计算光刻领域，使 ASML、TSMC 和 Synopsys 等半导体领导者能够在当前生产工艺接近极限的情况下加速下一代芯片的设计和制造物理学使什么成为可能。

用于计算光刻的全新 NVIDIA cuLitho 软件库正由全球领先的晶圆代工厂台积电和电子设计自动化领导者 Synopsys集成到其最新一代 NVIDIA Hopper 架构 GPU 的软件、制造流程和系统中。设备制造商 ASML 在 GPU 和 cuLitho 方面与 NVIDIA 密切合作，并计划将对 GPU 的支持集成到其所有计算光刻软件产品中。

这一进步将使芯片具有比现在更细的晶体管和电线，同时加快上市时间并提高 24/7 全天候运行以驱动制造过程的大型数据中心的能源效率。

“芯片行业是世界上几乎所有其他行业的基础，”NVIDIA 创始人兼首席执行官黄仁勋表示。“随着光刻技术达到物理极限，NVIDIA 推出 cuLitho 并与我们的合作伙伴 TSMC、ASML 和 Synopsys 合作，使晶圆厂能够提高产量、减少碳足迹并为 2nm 及更高工艺奠定基础。”

在 GPU 上运行，cuLitho 比当前光刻技术(在硅晶圆上创建图案的过程)提供高达 40 倍的性能飞跃，加速目前每年消耗数百亿 CPU 小时的大量计算工作负载。